HL係(xì)列多弧離子真空鍍膜機(jī)

日期(qī):2016-01-13 10:01:54 人氣:91845
HL係列多弧離子真空鍍膜機

工作原理

HL係列多弧(hú)離子真空鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技術用於蒸發源的技術,即在真空環境下引燃蒸發源(陰極),與(yǔ)陽極之(zhī)間形成自持弧光放電,既從(cóng)陰極弧光輝點放(fàng)出陰(yīn)極物質的離子。由於電流局部的集(jí)中,產生的焦耳熱使陰極(jí)材料(liào)局部的爆(bào)發性地等離子化,在工件偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在工件表麵上形成被鍍的(de)膜層。

應用範圍

1、鍾表行業(表帶、表殼(ké)、表盤等)
2、五金(jīn)行業(衛生潔具、門把手、拉手、門鎖等)
3、建築行業(不鏽鋼板、樓梯(tī)扶手、立柱等)
4、精密模具業(衝(chōng)棒標準件模具、成型模具(jù)等)
5、工(gōng)具行(háng)業(鑽頭、硬質合金、銑刀、拉刀、刀頭)
6、汽車工業(活塞、活塞環、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其(qí)表麵得到(dào)既美觀又耐磨的功能性磨層。主要鍍製的膜層有(yǒu):離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化(huà)鈦膜、氮化鋯膜、鈦(tài)鋁合金膜、氮(dàn)化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜,經離子鍍膜加工後的工件,可以提高硬度、耐磨度,抗腐(fǔ)蝕(shí)和美化的作用。 
7、有(yǒu)色金屬製(zhì)品(如銅、鋁、鋅、鎂等(děng))不需水鍍直接(jiē)鍍製膜層。

產品特點

1、裝備低(dī)溫離(lí)子輔助源,無需加熱直接(jiē)常溫冷鍍成膜,節能省電,提(tí)高產能。
2、沉積速率高,鍍膜速度快,覆蓋領域廣,可以在多種產(chǎn)品上鍍(dù)製各(gè)類裝飾膜或功能膜,是中、高端產品大量生產(chǎn)的適合設備。

技術參數表

HL係列多弧離子真空鍍膜機     
型號HL-600HL-800HL-1000HL-1200HL-1400HL-1500HL-1600
真空室尺寸(cùn) Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真空機組KT400擴散泵機組KT500擴散(sàn)泵機組KT500擴散泵機組KT630擴(kuò)散泵機組雙KT630擴散泵(bèng)機組雙KT630擴散(sàn)泵機組雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統專用多弧鍍(dù)膜電源+多功能孿生磁環弧靶+柱形弧靶(可選配)
輔助鍍(dù)膜係統低溫離子輔助(zhù)源(除工具鍍外無需加溫係統(tǒng))
充氣係統質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計質量流量計(jì)質量流量計質(zhì)量流量計
控製方式手動或全(quán)自動(dòng)手動或全自動手動或(huò)全自(zì)動手動或全自動手動或全(quán)自動手動或全自動手動或全自動
抽氣速率(lǜ)5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數僅做參考,具體均(jun1)按客(kè)戶實際(jì)工藝要求設計訂做
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