GSF係列(liè)高精密電(diàn)子束蒸發光學真(zhēn)空鍍膜機
日期:2016-01-13 10:18:51 人氣:24012
GSF高精(jīng)密電子束(shù)蒸(zhēng)發光學真空鍍膜機的工(gōng)作(zuò)原理是將膜材放入水冷銅坩堝中,直(zhí)接利用電子束加熱(rè),使膜材中的原子或分子從表麵汽化逸(yì)出後入射到基片表麵凝結(jié)成膜。電(diàn)子束蒸(zhēng)發比一般(bān)電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度(dù)快,製成的(de)薄膜純度高。
光學鍍膜設備可鍍製(zhì)層數較多的短(duǎn)波通、長波通、增透(tòu)膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通(tōng)膜、介質膜、高反膜、彩色反射膜等(děng)各種膜係,能夠實(shí)現0-90層膜的膜係鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃(lí)、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產品的鍍膜要求。配置(zhì)不(bú)同的(de)蒸發源、電子槍和離(lí)子源及膜厚儀可鍍多(duō)種膜係(xì),對金屬(shǔ)、氧化物、化合物及其他高熔點膜材皆可蒸鍍。
1)、高精密光學鍍膜機配備有石(shí)英晶(jīng)體膜厚儀、光學膜厚自動控製係統,采用PLC與工業電腦配合自主研發的PY3100係統聯合實現對整個工作過程的全自動控製,可以實現無人值守,從而提高了工作(zuò)效率和保證(zhèng)產品質量的一致性和穩定性。
2)、大抽速真空係統加配深冷裝置,優秀的動態真空能力,為(wéi)複雜的光學膜係製備(bèi)提供了必要的(de)真空條件(jiàn)保障。
3)、蒸發分布(bù)穩定、性(xìng)能可靠的E型(xíng)電子槍,優化設計的蒸發源與(yǔ)工件架之間的位置關係,為精密膜係的實現調工了膜料蒸發分布方麵的保障。
4)、平穩而高(gāo)速旋轉的工件架轉動係統,使工件架內外圈產品光譜曲線更趨於一致。
5)、適用於光學領域行業,大規模工業生(shēng)產高端(duān)要(yào)求的廠商使用。
GSF高精密電子束蒸發(fā)光學真空鍍(dù)膜機 |
型號 | GSF-800 | GSF-1200 | GSF-1400 | GSF-1600 | GSFW-1000 | GSFW-1200 | GSFW-1600 |
真空室尺寸 | Φ800×1000MM | Φ1200×1400MM | Φ1400×1600MM | Φ1600×1800MM | Φ1000×1100MM | Φ1200×1400MM | Φ1600×1800MM |
真空機組 | KT400擴散泵機組(zǔ) | KT630擴(kuò)散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | 雙KT630擴散泵機組 | KT500擴散泵(bèng)機組 | KT630擴散泵(bèng)機組(zǔ) | 雙KT630擴散泵機組 |
鍍膜係統(tǒng) | 電子槍蒸發源、鍍膜輔助離(lí)子專用電源或霍爾離子源 |
充氣係統 | 壓強控(kòng)製儀 |
控製方式 | 半自動或全自動 |
膜(mó)厚監控係統 | 石英(yīng)晶體膜厚監控係統、光學膜(mó)厚監控係統 |
抽氣速率 | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min | 5×10-3Pa﹤15min |
極限真空 | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa | 3.0X10-4Pa |
備注 | 以上設備參數僅做參考(kǎo),具體均按客戶實際工藝要求設計訂做 |