工作原理可分為：電阻加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；感應加熱（rè）蒸發真空卷（juàn）繞鍍膜設備；電子束加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；磁控濺射真空卷繞鍍膜設備等。其（qí）中電子束（shù）加熱真空卷繞鍍膜設備用於大量蒸鍍高熔（róng）點物質如Si02.而磁控濺射原理的卷繞鍍膜設備生產效率較低，但具有鍍膜適應範圍寬膜層附著牢的（de）優點（diǎn）。

1、CJRW係列主要應用在柔性（xìng）線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容（róng）、汽車貼膜、薄膜太陽能（néng）電池、柔（róu）性太陽能電池等方麵。采用磁控濺射鍍膜技術，配備（bèi）直流、中頻或射頻磁控濺射係統，適合鍍製金屬膜、導（dǎo）電（diàn）膜、合（hé）計膜、介質膜（mó）等。 
2、SFRW係列采用電子束蒸發鍍膜技術，適合在PET、PVC、PI、CPP等薄膜表麵鍍製透明高阻包裝膜、防偽膜、幻彩膜、光學膜、介質膜等。
3、ZFRW係列主（zhǔ）要應用在印刷（shuā）包裝膜、包裝紙、金銀線、電容膜、功能薄膜等方麵。設備采用先（xiān）進的高頻感應蒸發（fā）或者連續送絲蒸（zhēng）發等技術，整個過程全自（zì）動控製（zhì）。