工（gōng）作原理可分為：電阻加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；感應加熱蒸發真空卷繞鍍膜設備；電子束加（jiā）熱蒸（zhēng）發（fā）真空卷繞鍍膜（mó）設備；磁控濺射真空卷繞鍍膜設備等（děng）。其中電子束加熱真空卷繞鍍膜設備用於大量（liàng）蒸鍍高熔點物質如Si02.而磁控濺射原理的卷繞鍍膜設備生產效率較低，但具有鍍膜（mó）適應範圍寬膜層附著牢的優點（diǎn）。

1、CJRW係列主要應用在柔性線路板、ITO透（tòu）明導電膜、薄膜電容、汽車貼膜、薄膜太陽能電池、柔性太陽能電池等方（fāng）麵。采（cǎi）用磁控濺射鍍膜技（jì）術，配（pèi）備直流、中頻或射頻磁控濺射係統，適合鍍製金屬膜、導電膜、合計膜、介質膜等。 
2、SFRW係列采用電子束蒸發鍍膜技術，適合在（zài）PET、PVC、PI、CPP等薄膜表麵鍍製透明高阻包裝膜、防偽膜、幻彩膜、光學膜、介質膜等。
3、ZFRW係（xì）列主要應用在印刷包裝膜、包裝紙、金銀線、電容膜（mó）、功能薄膜等方麵。設備采用先進的高頻（pín）感應蒸發或者連續送絲蒸發等技術，整個過程全自動控製。