磁控（kòng）濺射是一種 (PVD) 工藝，是製造半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器件的主（zhǔ）要薄膜沉積方法。以下是磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能的原因和（hé）相關解決方案供您（nín）參考。

● 問題一：薄膜（mó）灰黑或暗黑
● 問題二：漆膜表麵暗（àn）淡無光澤
● 問題三：薄膜顏（yán）色不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題五：薄膜表麵有（yǒu）水印、指紋和灰粒

 薄膜灰黑或暗黑 
丨真空度小（xiǎo）於0.67Pa；真空度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純（chún）度小（xiǎo）於99.9%；氬氣應更換為純度為（wéi） 99.99%。
丨充氣（qì）係統漏氣；應檢查充氣係統以消除漏氣。
丨薄膜未充分固（gù）化；薄膜的固化時間（jiān）應適當延長。
丨鍍件排出的氣體量過大；應進行幹（gàn）燥和密封。

 漆膜表麵無光澤 
丨（shù）薄膜固化不（bú）良或變質；應延（yán）長薄膜固化時間或更換（huàn）底漆。
丨磁控濺射時間過（guò）長；施工時間應適當縮短。
丨磁控濺射成膜（mó）速度太快；磁控濺射電流或電壓應適當降（jiàng）低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆（qī）噴塗不均；底（dǐ）漆（qī）的使用方法有待改進。
丨膜層太薄；應適當提高磁控濺射（shè）速率或延長磁控濺射時（shí）間。
丨夾具設計不合理；應改進夾具設計。
丨鍍件幾何形狀過（guò）於複雜；鍍件的轉速應（yīng）適當提高。

 起（qǐ）皺、開裂 
丨底漆（qī）噴得太（tài）厚（hòu）；應控製噴霧的厚度。
丨塗層粘度過高；應適當降低塗料的（de）粘度。
丨蒸發速度過快；蒸發（fā）速度（dù）應適當減（jiǎn）慢。
丨膜層太厚；濺射（shè）時間應適當縮短。
丨電鍍溫（wēn）度過高；鍍件的加熱（rè）時間（jiān）應適當縮短。

 薄（báo）膜表麵（miàn）有水印、指紋和灰粒 
丨鍍件清洗（xǐ）後未充分幹燥；應加強鍍前處理（lǐ）。
丨在鍍件表麵潑水或唾液；加（jiā）強文明生產，操作人員戴口罩（zhào）。
丨塗底漆後，手接觸鍍件，表麵留下指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵。
丨有顆粒物，應過濾或除塵。
丨靜電除塵失（shī）敗或噴（pēn）塗固化（huà）環境（jìng）有顆粒粉塵（chén）；應更換除塵器並清潔工作環境。


除以上常（cháng）用（yòng）材料外（wài），金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅（xīn）、銦（yīn）、錫、等，均有（yǒu）在鍍膜中（zhōng）使用（yòng）。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽（guī）鋁（lǚ）、釩錸、鎢鉬等。

下一（yī）個：紫外線燈在真空鍍膜上的光固化塗料的運用