CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的磁控濺射工作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物（wù）體，從（cóng）而引起物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在（zài）1842年Grove在實驗室中（zhōng）就發現了這種（zhǒng）現（xiàn）象。磁控濺射靶采（cǎi）用靜（jìng）止電磁場，磁（cí）場為曲線形，均（jun1）勻電場和對數電場則分別用於平麵靶和同軸（zhóu）圓柱靶。電子（zǐ）在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原（yuán）子發生（shēng）碰撞。若（ruò）電子（zǐ）具（jù）有（yǒu）足夠的能量（約（yuē）為30ev）時，則電（diàn）離出Ar+並產生電子，電子飛（fēi）向基片，Ar+在電場作用下，加速（sù）飛向陰（yīn）極（jí）（濺射（shè）靶）並以高能量轟擊靶（bǎ）表（biǎo）麵，使靶材發生濺（jiàn）射。 

廣泛應用於家電（diàn）電器、鍾表、高爾夫球（qiú）頭（tóu）、工（gōng）藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀（yí）器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表麵裝飾性鍍膜及工模（mó）具的功能（néng）塗層，在鍍製超黑膜、純（chún）金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大（dà）的表麵上獲得厚度（dù）均勻的膜層；
2）、薄膜（mó）與基片（piàn）的附著力強。部分高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注（zhù）入現象，在基（jī）片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶（róng）合的偽擴散層；
3）、製（zhì）備特殊材料的薄（báo）膜，可以使用不同的材料同時濺射製備（bèi）混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜層純度高（gāo），濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源（yuán），無需加熱直接常溫（wēn）冷鍍成膜，節能省電，提高產能。