CJ係列磁控濺射真空鍍膜機的（de）磁控濺（jiàn）射工作原理，所謂（wèi）“濺射”就是（shì）用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表（biǎo）麵原子從母體中逸出的現（xiàn）象（xiàng）。早在1842年Grove在實驗室（shì）中就（jiù）發（fā）現了這種現象。磁控濺射靶（bǎ）采用靜止電磁場，磁場為曲（qǔ）線形，均勻電場和對數（shù）電場則（zé）分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加（jiā）速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電（diàn）離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用（yòng）下，加速飛向陰極（濺射靶）並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手（shǒu）機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚（zhuān）等表麵裝飾性（xìng）鍍膜及工模具（jù）的（de）功（gōng）能塗層，在鍍製超黑膜、純金（jīn）裝飾膜、導電膜等（děng）領（lǐng）域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製（zhì）預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜（mó）可（kě）以在較大的表麵上獲（huò）得厚度均勻的（de）膜層；
2）、薄膜（mó）與基（jī）片的附著力強。部分高能量的濺射原（yuán）子產生不同程度（dù）的注（zhù）入現象，在基片上形成一層（céng）濺射原子與基片原子（zǐ）相互溶合（hé）的偽擴（kuò）散層；
3）、製備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射（shè）製備混合膜、化合膜，還可（kě）濺射（shè）成TiN仿金膜；
4）、膜層純度（dù）高，濺射膜（mó）層中不會混入坩鍋加熱器（qì）材料的成份。
5 )、裝備低溫離子（zǐ）輔助源，無（wú）需（xū）加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省（shěng）電，提高產（chǎn）能（néng）。