化學氣相沉積是一種製備材料的氣相生長方法，它是把（bǎ）一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室，借助空間氣（qì）相（xiàng）化學反應在基體表麵上沉積固態薄（báo）膜的工藝技術（shù）。化學氣（qì）相沉積(Chemical vapor deposition，簡（jiǎn）稱（chēng）CVD)是反應物質在氣（qì）態條件下發生化學反應，生成固態（tài）物質沉積在（zài）加熱的固態基體表（biǎo）麵，進而製得固體材料（liào）的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的（de）氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。