真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很（hěn）多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。今天（tiān），昆山浦元真空技術工程有（yǒu）限公司為您介紹以下幾（jǐ）種鍍（dù）膜（mó）機工作原理：
    

        一、空心陰極離子鍍原理

               在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通（tōng）入氬器氣（1-10-2）在（zài）陰極與輔助陽極之間加上引弧電（diàn）壓，使氬氣發生輝（huī）光放電（diàn），在空心陰極內產生低壓等離（lí）子體放電，陰極溫度升高到2300-2400K時，由冷陰極放電轉為熱陰極放電，開始熱（rè）電子發射，放電轉（zhuǎn）為穩定（dìng）狀態。通入反應氣體，可（kě）以製化合（hé）膜。

        二、測（cè）控濺射工作原理

              先將真空室預抽至10-3Pa，然後通入氣體（如（rú）氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛（fēi）向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和另（lìng）一個電子（zǐ）；轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運動方向，以（yǐ）電磁（cí）場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率。

        三、多弧離子鍍工（gōng）作原理

               其工作原理為（wéi）冷陰極自持（chí）弧光放電，其物理基礎為場致發射。被鍍材（cái）料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為高真空時，引發電極啟動器，接觸拉開（kāi），此時（shí），陰極與陽極之間形成穩定的電弧放電，陰極表麵布滿飛速遊動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發源，以若幹個（gè）電弧蒸發（fā）源為核（hé）心的為多弧離子鍍。

        四、電阻蒸（zhēng）發式鍍（dù）膜機

               膜材（cái）即要鍍的材料放（fàng）於蒸發舟中，置於（yú）真（zhēn）空室中，抽到一定真空時，通過電阻加熱膜材，使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大（dà）於蒸發源至（zhì）基片的線性尺寸時，原子和分子從蒸發源（yuán）中逸出後，到達基片形成膜。為了使膜厚均勻，可以利用電機帶動基片旋轉，並用膜厚儀控製膜厚，製出（chū）優（yōu）質膜。

        五、E型槍工作原理

               陰極燈絲加熱後發射（shè）具有0.3    EV初動能的熱電子，這些熱電子在燈（dēng）絲陰極與陽（yáng）極之間的電（diàn）場作用下加速並會聚成束狀。在電磁線圈的磁場中，電子束沿E x B的方向偏轉，通過陰極時，電子的能量提高到10KV，通過陽極（jí）電子偏轉270度角而入射坩堝內的膜材表麵上，轟擊膜材使（shǐ）其蒸發。

        六、PCVD鍍膜工作原理

               將被鍍件放在低壓（yā）輝光放（fàng）電的陰極上，通入適當氣體，在一（yī）定溫度下，利用化學反應和離子轟（hōng）擊相結合的過程，在工件表（biǎo）麵獲得塗層。

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