真空鍍膜機電化學沉積指（zhǐ）的是用電化學方法在金屬或非金（jīn）屬（shǔ）製件表（biǎo）麵沉積一層或多層金屬鍍層或合金鍍（dù）層或複合（hé）鍍層的技術。通常是，表麵具有導電能力的製件，於電解（jiě）質溶液中（zhōng），被置於陰極，在（zài）外電流的作用下，該溶液中的金（jīn）屬離（lí）子（zǐ），或（huò）絡合離子在製件（jiàn）表麵，即陰極表麵發生還（hái）原反應，使金屬沉積在製件（jiàn）的表麵，這一過程又叫金屬電沉積，俗稱電鍍。用真空（kōng）鍍膜設備電鍍的方法可以在金屬（shǔ）或非金屬製件表麵得到功能各異的多種鍍層，滿足在不同環（huán）境（jìng）中對製件的使用要求。
　　它們涉及四大類：耐腐蝕、抗氧化；耐磨損、減摩；裝飾（shì）、美化；聲、光、磁、電的轉換，以及其他方麵如催化、殺菌等。內（nèi）容包括單金屬鍍層、合金鍍層、複合鍍層、磷化、鈍化、化（huà）學（xué）氧化、電化學氧化等。目前研究方向包括：合金電鍍、激（jī）光電鍍、微粒彌散複合電鍍、纖維增強複合電鍍（dù）、梯度功能複合（hé）電鍍、微弧氧化、納米電（diàn）龜鍍與（yǔ）納米多層膜電鍍等。怎麽挑選市（shì）場上形形色色的（de）真空設備?真空鍍膜機電鍍層設計的選用要在了解（jiě）它們的特性、設計依據、適用範圍、不宜或不允許使（shǐ）用範圍的基礎上進行（háng），進而（ér）確定厚度係列與工藝。
　　雖然，它（tā）在表麵處理（lǐ）技術中（zhōng）的曆史較長（zhǎng），工藝（yì）也比較成熟，但隨著現代工業和技術的飛速發展，對真空鍍膜（mó）設（shè）備電鍍層的功（gōng）能性要求（qiú）越來越高，如高的耐腐蝕性、抗氧化性、良（liáng）好的導電性、高硬度、高的耐磨性以及某些特殊（shū）的物理、化（huà）學特性，像特殊的（de）電學性質、磁學性質（zhì）、半導（dǎo）體（tǐ）性能以及超導性能等，電鍍新技術也不斷在發展。

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