真空蒸發（fā）鍍膜法（簡稱真空（kōng）蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指（zhǐ）在一定的真空條件下，利（lì）用高溫加熱蒸（zhēng）鍍（dù）材料（金屬合金或金（jīn）屬氧（yǎng）化物）到一定（dìng）溫度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺（jiàn）射到（dào）玻璃基板（bǎn）表麵（miàn）凝結形成固態薄膜的（de）方法。

由（yóu）於真（zhēn）空（kōng）蒸鍛法的（de）主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生（shēng），所（suǒ）以又稱熱蒸發法。蒸發源（yuán）作為蒸發裝（zhuāng）置的關鍵部件，

大多（duō）數蒸發材料（liào）都要求在1000-2000℃的高溫下（xià）蒸發。真空蒸鍍法按蒸（zhēng）發源（yuán）的不同可分為電阻法、電子束蒸發法、高頻感應（yīng）法和激光蒸（zhēng）發法（fǎ）等。