對於真空鍍膜機設備的分類，到底了解多（duō）少（shǎo）？
真（zhēn）空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控（kòng）濺鍍膜機射、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等（děng）很多（duō）種。

主要是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設（shè）備中需要鍍膜的被成（chéng）為基片，鍍的材料（liào）被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中（zhōng）。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來，並且沉降在基片表麵，通過成膜過（guò）程形（xíng）成薄（báo）膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜（mó），可以簡單理解為利用電子或高能（néng）激光轟擊靶材（cái），並使表（biǎo）麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，
並且最終沉積在基（jī）片（piàn）表（biǎo）麵，經（jīng）曆成膜過程，最（zuì）終形成薄膜。爐體可選擇由（yóu）不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製成的雙層水（shuǐ）冷結構。

根據工藝要求（qiú）選擇不同規格（gé）及類型鍍膜設備（bèi），其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備（bèi）、磁控反應（yīng）濺（jiàn）射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多（duō）弧離子鍍等（děng）。
夾具運轉形（xíng）式有自轉、公轉及公轉+自轉方式，用戶可根據片尺寸及形狀提出相應要求，轉動的速（sù）度範圍及（jí）轉動精度：普（pǔ）通可調及變頻調速等。