什（shí）麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉（chén）積：指利用物理（lǐ）過程實現物質轉（zhuǎn）移，將原子或（huò）分子由（yóu）源轉移到基材表麵上的過程。

它的作用是可以使（shǐ）某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等（děng））的微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有（yǒu）更好的性能。

PVD基本方（fāng）法：真空（kōng）蒸鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧（hú）離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD 技（jì）術是目前（qián）國際上科技含量高且被廣泛（fàn）應用的離子鍍膜技術，它具有 鍍膜層致密（mì）均勻、附著力強、鍍性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材（cái）料廣泛等特（tè）點（diǎn）.

PVD 本身鍍膜過程是高溫狀態下，等離子場下的輝光（guāng）反應，亦是一個高淨化處理（lǐ）過程；鍍層（céng）的主要原（yuán）材料（liào）是以（yǐ）鈦（tài）金屬為主，鈦是金屬中最與人體（tǐ）皮膚具親和性能（néng）的，使得PVD 產品本身具備純淨的環保性能。