磁控濺射真空鍍膜機需要（yào）鍍膜的被稱為（wéi）基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍（dù）膜一般是加熱靶材使表（biǎo）麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表麵，通過成膜過（guò）程（散點（diǎn）－島狀結（jié）構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子（zǐ）或高（gāo）能激光轟擊靶（bǎ）材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且最終（zhōng）沉積（jī）在基片表麵，經曆成膜過程，最終（zhōng）形成薄膜（mó）。

使（shǐ）用步驟：
電控櫃操作
1、開水（shuǐ）泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維持泵、真空計電（diàn）源，真空計（jì）檔（dàng）位置V1位（wèi）置，等待其值小於10後，再進入下一步操作。約需5分鍾（zhōng）。
4、開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、並啟動（dòng），真空計開關換（huàn）到（dào）V2位置，抽到小於2為止，約需20分鍾。
5、觀察渦輪分子（zǐ）泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵和高（gāo）真（zhēn）空閥繼續抽真空，抽真空到達（dá）一定（dìng）程度（dù）後才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才（cái）能打開電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時（shí）開電子槍控（kòng）製Ⅰ和電（diàn）子槍控製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鍾後延時及（jí）保護燈滅，若後門（mén）未關（guān）好或水流繼電器有故（gù）障（zhàng），保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以（yǐ）上，調節束流可（kě）到200mA左右，簾柵（shān）為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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