真空鍍膜技術是真（zhēn）空應用技術的（de）一個重（chóng）要分（fèn）支，它已廣泛（fàn）地應（yīng）用（yòng）於光學、電子學、能源開發，理化儀器、建築機械、包裝、民用製品、表麵科（kē）學以及科學研究（jiū）等領域中。真空鍍膜所采（cǎi）用的方法主要有蒸發（fā）鍍、濺射鍍、離子（zǐ）鍍、束（shù）流沉積鍍以及（jí）分子束外（wài）延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目（mù）的是（shì）為了改（gǎi）變物質表麵的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表（biǎo）麵處理技術中的重要組成部分，其分類如（rú）表 6 所示。現就其幾個主要應用方麵做一簡單介紹。

        首先在光學方麵，一塊光學玻璃或石（shí）英表（biǎo）麵上鍍一層或幾層不同物（wù）質的（de）薄膜後，即可成為高反（fǎn）射或無反射（shè）（即增透膜）或者作任何預期（qī）比例的反射或透射（shè）材料，也可以作成對某種（zhǒng）波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口徑（jìng）的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型（xíng）建築物的大窗鍍膜茉莉，都（dōu）很需（xū）要。增透膜則大（dà）量用於照相和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜（mó）則大量（liàng）用於照相機（jī）和電視攝象機（jī）的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍膜更（gèng）占有極為重要的地位。各種規模的繼（jì）承電路。包括（kuò）存貯器、運（yùn）算器、告訴邏輯元件等都要采（cǎi）用導電（diàn）膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約（yuē）瑟夫遜器件、電荷耦合器件（ CCD ）也都甬道各種薄（báo）膜（mó）。

        在（zài）顯示器件方麵，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透明導電（diàn）膜、攝像管光導膜、顯示管熒（yíng）光屏的鋁襯（chèn）等也都是采用（yòng）真空鍍膜法製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以製（zhì）造（zào）電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可（kě）以製造電容器，蒸發硒可以（yǐ）得到靜電複印（yìn）機用（yòng）的（de）硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以製（zhì）造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以（yǐ）用於製（zhì）造超導膜（mó）和（hé）慣性（xìng）約（yuē）束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠（zhū）寶、鍾（zhōng）表外（wài）殼（ké）表麵、紡織品金屬花紋（wén）、金絲銀絲線等蒸鍍（dù）裝飾用薄膜，以及采用濺射（shè）鍍或離子鍍對刀（dāo）具、模具等製造超硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍（dù）製（zhì）備鈦金製品，如不鏽鋼薄（báo）板（bǎn）、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托（tuō）架、樓梯欄杆等目前正在盛行。