本（běn）文從係統結構、參數控製和（hé）鍍膜方式等綜述了真空卷（juàn）繞鍍膜技術研究進（jìn）展（zhǎn）。按結構可分為單室、雙室和多室真空卷繞係統，後兩者可解決開卷放氣問（wèn）題並（bìng）分別控製卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控製分錐度、間（jiān）接和直接控製模型（xíng），錐度控製模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的（de）問題；間接張力控製（zhì）無需（xū）傳感（gǎn）器，可用內置張力控製模塊的矢量變頻器代替；直接張力控製通過張力傳感器精確（què）測量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發（fā）、磁控濺射等方式，可用於製備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽能電池等半導體器（qì）件。針對真（zhēn）空卷繞鍍膜技術研究現狀及向產業（yè）化過渡存在的問題，最後（hòu）作了簡（jiǎn）要（yào）分析與展望。

　　真空卷繞鍍膜(卷對卷)是（shì）在真空下應（yīng）用不同方法在柔（róu）性基體上實現連續鍍膜的一（yī）種技術。它涵蓋真空（kōng）獲得、機電控製、高精（jīng）傳動和表麵分析等多方麵內容。其重點（diǎn）是，在保（bǎo）證鍍膜質量前提下提高卷（juàn）繞速率、控製鍍膜（mó）穩定性及實施在線監（jiān）控。卷對卷技術（shù）成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層膜等優點。第（dì）一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成，現可鍍（dù）幅寬（kuān）由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包裝和裝飾用膜，近年逐漸（jiàn）擴大（dà）至激光（guāng）防偽膜、導電等功能薄膜（mó）方麵，是（shì）未來柔性電子等行業的主流技術之一。

　　目前，國際前（qián）沿是研究不同製備工藝下（xià）功能薄膜特性並完善複合膜層製備（bèi）。卷繞鍍膜機有向大型工業化和小型（xíng）科研化方向（xiàng）發展的兩（liǎng）種（zhǒng）趨勢，國內蘭州真（zhēn）空設備、廣東中環真空設備等公司多生產大型工（gōng）業卷繞設備， 國外如TW Graphics 和Intellivation 公司等，主要為科研機構提供小型（xíng）或微型卷繞鍍膜機。

        真空卷繞鍍膜設備分類
　　真空卷對（duì）卷設備由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控製等係統組成。據真空室有無擋板，可分單室、雙室和多室結構。單室的收放卷（juàn）輥和鍍膜輥在同一（yī）室中（zhōng），結構簡單但開（kāi）卷時（shí）放氣會汙染真空環境。雙室結（jié）構將（jiāng）係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似開卷放氣問題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上（shàng）將（jiāng）相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹（gàn）擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的（de）開普頓擋板固定於（yú）兩磁控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的（de）銅層。

　　分隔擋板與真空室壁狹縫越小越（yuè）好。據鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電（diàn）機個數，則可分為兩電機、三電機和四電機驅動係統。

        總結與展望

　　真（zhēn）空卷繞鍍膜因其大麵積、低成本、連（lián）續性等特點，比間歇式（shì）鍍膜有很大優（yōu）勢（shì），廣受國內外研究者（zhě）和（hé）企業關注。當前卷（juàn）繞鍍膜（mó）技術（shù）進展較快，解（jiě）決了鏤空線、白條（tiáo）、褶皺等問題，開始用（yòng）於製備石墨（mò）烯、有機太陽能電池和透明導電薄膜等新型功能介質與器件。故對製膜過程和成膜質（zhì）量提（tí）出了（le）更高要求，真空機組主泵選擇從大抽速擴散泵發展到（dào）無油超高真空分子泵（bèng）和低（dī）溫泵，開發出了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減小薄膜（mó）拉伸變形。張力控製多用考慮夾感應張力的收卷模型（xíng）和單跨非線性動力學的放卷模（mó）型。

　　目（mù）前卷（juàn）繞鍍膜的精密控製（zhì）有待提高，例如轉印石墨烯時，難以徹底去除基底和石墨烯間的熱（rè）解膠，且卷（juàn）繞速度過快或基底較硬引發的切應力會使石墨烯層形成裂縫或孔洞。又如，真空卷繞發製備的有機薄膜表麵缺陷多，載流子遷（qiān）移率較低（dī），進而（ér）嚴重（chóng）影響其器件的光電特（tè）性。未來（lái）應增設薄膜應力等測控單（dān）元，融合CVD、離子鍍（dù）、高壓靜電紡絲、真（zhēn）空噴（pēn）射和原位聚合等成膜技術，為開發新型有機及其無機複合（hé）功能薄膜和器件提供保障。

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