氣體的（de）分布狀況對於平板基（jī）片（piàn）鍍膜來（lái）說是極其重要的（de），通過機械結構設計，使氣體密（mì）度的變化率在濺射沉積區域內（nèi）的盡量小。

而（ér）在（zài）區域外，使係統的流導盡量的大，以（yǐ）提（tí）高（gāo）氣體的利（lì）用率和抽氣係統的效率（lǜ）。

控製氣體分布的機械部件或結（jié）構包括布氣係統、真空室的結構、抽氣係統等三（sān）個部分。