磁控濺射具（jù）有（yǒu）以下兩大優點：提（tí）高等離子密度，從而（ér）提高濺射速度；減少轟擊零件的電子數目，因而降低了基材因（yīn）電子轟擊（jī）的升（shēng）溫。

因此，該（gāi）技術在薄膜技術中占有主導地位。磁控濺射陰極的最大（dà）缺點：使用平麵靶材，靶材在跑道區形成濺射溝道，這溝道一（yī）旦貫穿靶材，則（zé）整塊靶材即報廢，因而靶材（cái）的利用率隻有20-30%。

不過，目前為了避免這個缺點，很（hěn）多（duō）靶材采（cǎi）用圓柱靶材形式，靶（bǎ）材利用率得以大幅度提高。