濺射靶材： 濺射靶材（cái）按形狀分類：矩形平麵靶材（cái）、圓形平麵靶（bǎ）材、圓柱靶（bǎ）材

濺射靶材按成分分類：單（dān）質金屬靶材、合金靶材（cái）、陶瓷靶材

平麵靶（bǎ）材利用率比（bǐ）較低，隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材（cái）冷卻與靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶功率（lǜ）越大，濺射速度（dù）越（yuè）大；靶允（yǔn）許的功率與（yǔ）靶材的性（xìng）質及冷卻有關；靶材采用直接水冷（lěng），允許的靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合（hé）：ITO,SiO2,陶瓷等脆性（xìng）靶材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導熱性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好（hǎo）；強度足夠---太薄（báo），容易變形，不易真空（kōng）密封。 

結構： 

空（kōng）心或者實心結構---磁（cí）鋼不泡或泡在冷水中；厚（hòu）度適當---太厚，消耗部分磁強（qiáng）；太薄，容（róng）易變形。